2,4-퀴놀린디올 CAS 86-95-3

전통적인 반응성 염료는 대부분 활성기의 연결 매트릭스로 염화시아누르를 사용하며, 염료 분자의 공액계가 작아 염료 강도가 부족합니다. 지정된 염색 깊이를 달성하려면 더 높은 염료 투입량이 필요하며, 이는 염색 폐수에 염료 잔류 문제를 악화시킵니다. 2,4 퀴놀린디올을 반응성 염료의 발색단으로 사용하고 그의 2위치 수산기를 활용하여 염화시아누르 활성기를 도입하는 친핵성 치환 반응을 통해 새로운 퀴놀린형 반응성 염료를 얻을 수 있습니다.

면 섬유의 고착률은 90% 이상에 도달할 수 있으며 이는 기존의 일반 반응성 염료보다 약 20% 더 높습니다. 동시에, 염료의 몰 흡광 계수가 높기 때문에 동일한 염색 깊이를 달성하는 데 사용되는 염료의 양을 25%까지 줄일 수 있으며, 염색 폐수의 COD 배출량을 크게 줄여 인쇄 및 염색 산업의 현재 청정 생산 요구 사항을 완전히 충족합니다.

이 이중 활성 퀴놀린 반응성 염료의 합성 과정은 매우 높은 반응 선택성을 가지고 있습니다. 첫째, 저온 및 약알칼리성 조건에서 2,4 퀴놀린디올의 4-하이드록시 그룹이 파라 에스테르의 디아조늄 염과 결합하여 에틸렌 설폰 황산 에스테르의 활성 전구체를 도입합니다. 이어서, 시스템을 40도까지 가열하고 2 위치 수산기와 염화시아누르 사이의 축합 반응을 진행시킨 후, 클로로트리아진 활성기를 결합시켜 최종적으로 목적 생성물을 얻었다.

면직물의 연속 패드 염색 공정에서 전통적인 반응성 염료는 고농도 알칼리 고착 조건에서 염료 가수분해가 심해 염색 재현성이 떨어지고 가수분해되지 않은 염료가 다량으로 폐수에 유입되어 처리의 어려움이 증가하는 문제에 직면해 있습니다. 2,4 퀴놀린디올을 모물질로 하여 합성된 반응성 염료는 퀴놀린 헤테로사이클의 강한 전자 결핍 효과로 인해 염료 분자 내 활성기의 알칼리 안정성이 크게 향상되었습니다.

형광염료는 생물학적 표지 및 형광 추적 분야의 핵심 소재입니다. 기존 형광염료는 광표백 속도가 빠르고 스톡스 이동이 작은 단점이 있는 반면, 2,4-디니트로페닐디올로부터 합성된 퀴놀린 형광염료는 형광 성능이 매우 우수합니다. 6번째와 7번째 위치에 서로 다른 전자 공여 치환체를 도입함으로써2,4-퀴놀린디올, 염료의 형광 방출 파장을 정밀하게 제어할 수 있어 청색에서 적색광 영역까지 전체 대역 형광 범위를 달성할 수 있습니다.

동시에 이러한 유형의 퀴놀린 형광 염료는 매우 강한 광안정성을 가지고 있습니다. 2시간 동안 자외선에 지속적으로 노출된 후에도 형광 강도 유지율은 여전히 ​​90% 이상으로 기존 형광 염료의 5배 이상입니다. 현재 이러한 유형의 형광 염료는 세포 형광 표지 및 면역 형광 검출과 같은 생물 의학 분야에서 널리 사용되고 있으며 고급 체외 진단 시약의 핵심 형광 소재로 자리잡고 있습니다-.

2,4 퀴놀린디올의 분자 구조를 변형하여 합성된 퀴놀린 레이저 염료는 420-580nm 파장 범위에서 연속 조정 가능한 레이저 출력을 달성할 수 있으며 레이저 변환 효율은 30% 이상이며 이는 기존 쿠마린 레이저 염료보다 10% 이상 높습니다. 동시에 이러한 유형의 퀴놀린 레이저 염료의 광화학적 안정성은 매우 우수합니다.

잉크 및 플라스틱 착색 분야에서 전통적인 용제 염료는 착색력이 낮고 마이그레이션 저항성이 떨어지는 문제에 직면해 있습니다. 그러나 2,4-디클로로퀴놀린디올을 장쇄 알킬아닐린의 디아조늄염과 결합시켜 얻은 유용성 아조퀴놀린 염료는 톨루엔, 에틸아세테이트 등 유기용매에 대한 용해도가 매우 높으며 착색력도 1.5배 이상 높다. 전통적인 아닐린 용매 염료의 것입니다.