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중합방지제 510(NPAL)화학명이 n-니트로소-n-페닐히드록실아민 알루미늄염인 은 산업 산업에서 UV 경화 코팅 및 잉크로 가장 일반적으로 사용됩니다. 경화 코팅에서 가장 일반적이고 사용하기 쉬운-모델은- 억제제 510입니다. 이는 구리, 철, 알루미늄, 티타늄 등과 함께 불용성 침전을 형성할 수 있고 클로로포름 및 에틸 아세테이트와 같은 유기 용매로 추출할 수 있는 중요한 분석 시약입니다. 주로 침전 분리 또는 계량 분석을 위한 침전제로 사용됩니다. 또한 구리와 철을 다른 금속 이온으로부터 분리하는 것과 같은 추출 분리 또는 광도 분석을 위한 추출제로 사용할 수도 있습니다. 강산 용액에서 철을 침전시키고 결정하는 데 사용됩니다. 바나듐산염에 의해 형성된 암적색 침전의 정량적 측정에 사용됩니다. 티타늄에 의해 형성된 황색 침전의 정량적 측정에 사용됩니다. 알루미늄의 비색 측정에 사용됩니다.
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화학식 |
C18H15AlN6O6 |
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정확한 질량 |
438 |
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분자량 |
438 |
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m/z |
438 (100.0%), 439 (15.1%), 439 (4.3%), 439 (2.2%), 440 (1.3%), 440 (1.2%) |
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원소 분석 |
C, 49.32; H, 3.45; 알, 6.16; 엔, 19.17; 아, 21시 90분 |
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녹는점 167-170 ℃, 끓는점 168-170 ℃, 보관조건 5 ℃ 이하, 가수분해 민감도 4: 중성 조건에서 물과 반응 없음, 위험물 표시 t, 위험 분류 코드 68-36/37/38-23/24/25-45, 안전 지침 22-36/37/ 39-45-26-53, 위험물 운송 번호 UN 2811 6.1/pg 3, TSCA 예.
중합방지제 510(NPAL)(CAS 번호: 15305-07-4)는 트리스(N-니트로소-N-페닐하이드록실아민) 알루미늄염으로도 알려져 있으며 독특한 화학적 특성을 지닌 유기 금속 화합물입니다. 분자 구조에는 알루미늄 원자와 배위하여 안정한 복합체를 형성하는 3개의 N-니트로소-N-페닐히드록실아민 그룹이 포함되어 있습니다. 이 화합물은 산업 분야, 특히 UV 경화 재료, 금속 분석, 유기 합성 및 정밀 화학 분야에서 광범위한 응용 가치를 보여줍니다.
UV 경화성 코팅, 잉크 및 접착제에서 N-니트로소-N-페닐히드록실아민 알루미늄은 효율적인 중합 억제제 역할을 하며 올레핀 단량체의 자유 라디칼 중합 반응을 억제하여 제품의 저장 안정성을 크게 확장합니다. 그 작용 메커니즘은 분자 내 니트로소(- NO)와 하이드록실아민(- NHOH) 그룹의 시너지 효과를 기반으로 하며, 이는 시스템의 자유 라디칼을 정확하게 포착하고 사슬 중합 반응의 전파를 차단할 수 있습니다.
기술적 이점
낮은 투여량 및 높은 효율성: UV 포뮬러에 0.01% -0.1% N-니트로소-N-페닐히드록실아민 알루미늄만 첨가하면 제품의 유통기한이 기존 억제제(예: 하이드로퀴논)의 경우 6개월에서 12~24개월로 연장될 수 있습니다.
우수한 상용성 : 불포화 폴리에스터 수지, 비닐 모노머, 아크릴 올리고머 등 다양한 시스템에 적합하며, 최종 제품의 투명성, 경도, 접착력에 부정적인 영향을 미치지 않습니다.
강력한 열 안정성: 25도 이하의 건조한 환경에 보관하면 중합 억제 효과가 2년 이상 유지되어 페놀계 중합 억제제의 성능을 훨씬 능가합니다.
적용사례
UV 잉크: 인쇄 산업에서 중합 억제제는 보관 중에 잉크가 겔화되는 것을 방지하고 인쇄물의 색상 안정성을 보장합니다.
UV 코팅: 자동차 코팅, 목재 코팅 등의 분야에서 페인트 캔의 수명을 연장하고 생산 중 원자재 낭비를 줄이는 데 사용됩니다.
포토레지스트(Photoresist) : 반도체 제조 시 포토레지스트의 안정제 역할을 하여 노광 전 자연 중합을 방지하는 역할을 합니다.
분석 시약으로서 금속 이온과 불용성 침전물 또는 추출 가능한 복합체를 형성하여 금속의 정성 및 정량 분석을 수행할 수 있습니다. 선택적 침전 능력은 분자 내 벤젠 고리의 π 전자 구름과 금속 이온 사이의 정전기적 상호 작용에서 비롯됩니다.
주요 반응
철 이온 정량: 강산성 용액에서 Fe 3 ⁺와 함께 진한 빨간색 침전물을 형성하며 철 함량의 비색 정량에 사용됩니다.
티타늄 이온 분리 : Ti⁴⁺로 노란색 침전물을 생성하고, 여과를 통해 티타늄을 다른 금속 이온과 분리합니다.
알루미늄 이온 비색법: Al 3 ⁺와 착색된 복합체를 형성하며, 환경 물 샘플에서 알루미늄 함량을 신속하게 검출하는 데 사용됩니다.
구리철 추출 : 클로로포름 등의 유기용매에서 Cu²⁺, Fe³⁺와 우선적으로 추출 가능한 착물을 형성하여 금속이온의 선택적 분리를 달성합니다.
기술 지표
침전 효율: Fe ³ ⁺ 및 Ti ⁴⁺의 침전율은 99% 이상에 도달할 수 있습니다.
선택성: 1mol/L HCl 용액에서 Cu ² ⁺ 및 Zn ² ⁺와 같은 공존 이온을 방해하지 않고 Fe ³ ⁺를 정량적으로 침전시킬 수 있습니다.
감도: 비색법에 의한 알루미늄의 최소 검출 한계는 0.01mg/L입니다.
유기화학에서는중합억제제 510(NPAL)다양한 복합 반응에 참여하기 위해 합성 중간체 또는 촉매로 사용될 수 있습니다. 그 반응성은 니트로소 그룹의 산화 특성과 분자 내 하이드록실아민 그룹의 환원 특성에서 비롯됩니다.
전형적인 반응
자유 라디칼 개시제: 중합 반응에서 분자량 분포를 조절하기 위해 분해를 통해 자유 라디칼이 생성됩니다.
산화 환원 촉매 : 알코올이 알데히드와 케톤으로 산화되는 반응에서 전자 전달 매체 역할을하여 반응 선택성을 향상시킵니다.
금속 리간드: 키랄 분자의 비대칭 촉매 합성을 위해 전이 금속(예: Cu, Fe)과 복합체를 형성합니다.
적용 사례
의약품 중간체 합성: 니트로소 구조는 항암제 파클리탁셀의 측쇄 합성에서 핵심 중간체로 도입됩니다.
고분자 재료 개질:-폴리에스테르 섬유의 정전기 방지 처리에서는 촉매 반응을 통해 하이드록실아민 그룹이 도입됩니다.
코팅, 전기도금 및 일일 화학 산업에서 N-니트로소-N-페닐하이드록실아민 알루미늄은 고유한 화학적 특성을 통해 다양한 기능을 발휘합니다.
특정 애플리케이션
코팅 방지제: 용제 기반 코팅에서 안료 표면과 수소 결합을 형성하여 안료 침전을 방지합니다.
전해도금액 안정제 : 아연니켈합금 전기도금시 도금액 내 금속이온의 자발적인 환원을 억제하고 도막의 균일성을 향상시키는 역할을 합니다.
일일 화학 제품용 방부제: 샴푸 및 스킨케어 제품에서 금속 이온을 킬레이트화하여 제품 유통기한을 연장합니다.
우리는 공급 업체입니다중합 억제제510(NPAL).
비고: BLOOM TECH(2008년부터), ACHIEVE CHEM-TECH는 당사의 자회사입니다.
N-니트로소-N-페닐하이드록실아민 알루미늄은 유기 반응을 촉매하는 데 일반적으로 사용되는 중요한 유기금속 화합물입니다.
먼저, 아조벤젠을 환원시켜 N-페닐하이드록실아민을 제조한다. 구체적인 단계는 다음과 같습니다:
(1) 100mL 둥근 바닥 플라스크에 에탄올 50mL를 넣고 교반하면서 아조벤젠(5.0g, 0.03mol)을 첨가한다.
(2) 얼음욕조를 이용하여 온도를 0도까지 낮춘 후, 진한 수산화나트륨(NaOH) 용액(10mL, 10M)을 한 방울씩 첨가합니다.
(3) 30분 반응 후 침전물을 여과하고 세척한 후 에탄올로 건조하여 흰색 고체의 N-페닐히드록실아민(3.4 g, 90%)을 얻었다.
C6H5N2Cl+2NaOH → C6H5NH2+NaCl+H2O
다음으로 N-페닐히드록실아민을 아세트산에 용해시킨 후 아질산나트륨의 작용에 의해 N-니트로소 N-페닐히드록실아민을 제조한다. 구체적인 단계는 다음과 같습니다:
(4) N-페닐히드록실아민(1.0g, 7.8mmol)을 아세트산(20mL)에 용해시킵니다.
(5) 아질산나트륨(NaNO2)(0.68g, 9.8mmol) 수용액을 교반하면서 적가한다. 반응 중에는 온도를 0도 이하로 유지하고 30분간 교반한다.
C6H5NH2+나노2+CH3쿠오 → C6H5NH4OH+CH3쿠나+H2O
마지막으로 N-니트로소 N-페닐히드록실아민을 테트라히드로푸란(THF)에서 염화알루미늄(AlCl3)과 반응시켜 N-니트로소 N-페닐히드록실아민 알루미늄을 얻었다. 구체적인 단계는 다음과 같습니다:
(6) N-니트로소 N-페닐하이드록실아민(0.5g, 2.3mmol)을 THF(10mL)에 용해합니다.
(7) 교반하면서 염화알루미늄(AlCl3)(0.74g, 5.5mmol)을 적가한다. 반응 온도는 0도 이하로 유지해야 하며, 반응 중에는 빛을 피해야 합니다. 반응이 완료된 후 여과를 통해 고체 생성물인 N-니트로소 N-페닐히드록실아민 알루미늄을 얻는다.
C6H5NH4OH+AlCl3 → C6H5NOAlCl2+HCl
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